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    以射頻矽甲烷電漿化學氣相沉積系統製備氫化非晶矽膜之研究
    • 化學工程系 /97/ 碩士
    • 研究生: 李杰 指導教授: 洪儒生
    • 本研究係用射頻電漿系統沉積氫化非晶矽薄膜,調變製程重要參數如氫氣稀釋比、基材溫度、工作壓力以及電極間距等,藉由傅立葉轉換紅外光光譜儀(FT-IR)以及紫外光/可見光光譜儀(UV-VIS)等分析方法,…
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    • 全文公開日期 2014/07/31 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)
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